使用運行圖尋找過程數據中模式的證據，並對非隨機行為執行兩種檢驗。運行圖標繪所有單獨的觀測值與子組 數，並在中位數 處繪制一條水平參考線。當子組大小大於 1 時，運行圖還標繪子組均值或中位數，並用線將它們連接起來。 對非隨機行為的兩種檢驗可以檢測出數據中的趨勢、振動、混合和聚類。此類模式表明觀測到的變異是因“特殊原因”（從系統之外產生的可更正原因）所致。常規原因變異是固有的或作為過程中正常的一部分的變異。當隻有常規原因影響過程輸出時，過程受控制。 假設您所在的公司生產多種用於測量輻射的設備。作為質量工程師，您關心隔膜型設備能否穩定地測量輻射量。您要對檢驗試驗室中所收集的 20 臺設備（以 2 個為一組）得到的數據進行分析。每次檢驗後，您都記錄每臺設備測量的輻射量。作為研究性測量，您決定構造運行圖，以評估測量值中的變異。 數據如下: 隔膜 隔膜45 3326 4625 3233 2230 2637 3444 4335 3838 4539 39 操作:

在 0.05 水平下聚類檢驗很顯著 。由於聚類檢驗的概率 (p = 0.022) 小於 a 值 0.05，因此可以斷定特殊原因正在影響您的過程，且您應該調查可能的來源。聚類可以指出抽樣問題或測量問題。

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